第二百零四章 深挖芯片材料，进军东南亚效仿大米？

“如果要用一句话概括，那就是这款光刻胶是我专门为多重曝光技术而设计的产品。”

    当陈星听见这句话那刻，心中也泛起了波澜。

    因为没有13.5极紫外光的EUV光刻机，各个环节都需要配合多重曝光技术去设计。

    想弄更先进的光刻胶？

    不好意思。

    48纳米dUV光刻机不支持！